WA 화이트 용융 알루미나 래핑 파우더

WA 백색 용융 알루미나(WFA) 래핑 파우더는  정밀 연삭, 연마 및 래핑 작업에 널리 사용되는 고순도 연마재입니다. WFA의 특성, 용도 및 주요 고려 사항에 대한 자세한 내용은 다음과 같습니다.


1. 구성 및 특성

  • 화학식 : α-Al₂O₃ (순도 ≥99.5%).

  • 색상 : 흰색(Fe₂O₃와 같은 불순물을 함유한 갈색 융합 알루미나와 대조).

  • 경도모스 9  (다이아몬드와 탄화규소에 이어 두 번째 경도).

  • 녹는점 : ~2050°C.

  • 입자 크기 :  거친  래핑을 위한  거친 입자(F12-F220) 부터 거울처럼 매끄러운 마감을 위한 미세 입자(F600-F2000)까지 다양합니다  .

  • 모양 : 각진 모양 또는 반원형 입자(재료 제거 시 공격성에 영향을 미침).

2. 래핑의 주요 장점

  • 높은 절단 효율성 : 날카로운 모서리 덕분에 빠른 재료 제거가 가능합니다(예: 금속, 세라믹 또는 유리).

  • 일관된 입자 크기 : 균일한 입자 분포로 표면 마감이 균일합니다.

  • 낮은 오염도 : 최소한의 철분이나 실리카 함량으로 작업물 얼룩이 방지됩니다.

  • 열 안정성 : 고속 래핑 중 열 축적을 방지합니다.


3. 일반적인 응용 분야

가공된 재료 :

  • 금속 : 스테인리스 스틸, 티타늄, 경화강철.

  • 세라믹 : 알루미나, 지르코니아, 질화규소.

  • 광학 : 유리 렌즈, 사파이어 기판.

  • 반도체 : 실리콘 웨이퍼, IC 부품.

프로세스 :

  • 래핑 : 평탄도 교정(예: 밸브 시트, 게이지 블록).

  • 연마 : Ra <0.1 μm 표면 거칠기 달성.

  • 호닝 : 원통형 부품의 정밀한 마무리 작업.


4. WA 래핑 파우더 사용 방법

  1. 슬러리 준비 :

    • 분말을 물, 오일 또는 글리콜 기반 운반체와 혼합합니다(예: 연마제와 운반체의 비율은 1:3~1:5).

    • 첨가제(예: 계면활성제)는 분산을 개선합니다.

  2. 장비 :

    • 래핑 머신(단면/양면), 연마 패드(주철, 주석 또는 폴리우레탄).

  3. 매개변수 :

    • 압력: 0.5–2 kg/cm².

    • 속도: 20~100 RPM(더 고운 입자를 원하시면 더 낮게 설정하세요).


5. 그릿 크기 선택 가이드

그릿(FEPA 표준) 평균 입자 크기(μm) 일반적인 사용
F220–F400 50~20 거친 래핑, 빠른 재고 제거.
F600–F800 15–8 중간 마무리.
F1000–F2000 5–2 세밀한 광택, 거의 거울과 같은 마감.
F2500+ <2 초정밀 광학/전자.

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