WA 백색 용융 알루미나(WFA) 래핑 파우더는 정밀 연삭, 연마 및 래핑 작업에 널리 사용되는 고순도 연마재입니다. WFA의 특성, 용도 및 주요 고려 사항에 대한 자세한 내용은 다음과 같습니다.
1. 구성 및 특성
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화학식 : α-Al₂O₃ (순도 ≥99.5%).
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색상 : 흰색(Fe₂O₃와 같은 불순물을 함유한 갈색 융합 알루미나와 대조).
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경도 : 모스 9 (다이아몬드와 탄화규소에 이어 두 번째 경도).
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녹는점 : ~2050°C.
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입자 크기 : 거친 래핑을 위한 거친 입자(F12-F220) 부터 거울처럼 매끄러운 마감을 위한 미세 입자(F600-F2000)까지 다양합니다 .
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모양 : 각진 모양 또는 반원형 입자(재료 제거 시 공격성에 영향을 미침).
2. 래핑의 주요 장점
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높은 절단 효율성 : 날카로운 모서리 덕분에 빠른 재료 제거가 가능합니다(예: 금속, 세라믹 또는 유리).
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일관된 입자 크기 : 균일한 입자 분포로 표면 마감이 균일합니다.
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낮은 오염도 : 최소한의 철분이나 실리카 함량으로 작업물 얼룩이 방지됩니다.
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열 안정성 : 고속 래핑 중 열 축적을 방지합니다.
3. 일반적인 응용 분야
가공된 재료 :
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금속 : 스테인리스 스틸, 티타늄, 경화강철.
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세라믹 : 알루미나, 지르코니아, 질화규소.
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광학 : 유리 렌즈, 사파이어 기판.
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반도체 : 실리콘 웨이퍼, IC 부품.
프로세스 :
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래핑 : 평탄도 교정(예: 밸브 시트, 게이지 블록).
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연마 : Ra <0.1 μm 표면 거칠기 달성.
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호닝 : 원통형 부품의 정밀한 마무리 작업.
4. WA 래핑 파우더 사용 방법
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슬러리 준비 :
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분말을 물, 오일 또는 글리콜 기반 운반체와 혼합합니다(예: 연마제와 운반체의 비율은 1:3~1:5).
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첨가제(예: 계면활성제)는 분산을 개선합니다.
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장비 :
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래핑 머신(단면/양면), 연마 패드(주철, 주석 또는 폴리우레탄).
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매개변수 :
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압력: 0.5–2 kg/cm².
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속도: 20~100 RPM(더 고운 입자를 원하시면 더 낮게 설정하세요).
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5. 그릿 크기 선택 가이드
그릿(FEPA 표준) | 평균 입자 크기(μm) | 일반적인 사용 |
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F220–F400 | 50~20 | 거친 래핑, 빠른 재고 제거. |
F600–F800 | 15–8 | 중간 마무리. |
F1000–F2000 | 5–2 | 세밀한 광택, 거의 거울과 같은 마감. |
F2500+ | <2 | 초정밀 광학/전자. |